http://uv-curing-wave.com/he/tags/%D7%97%D7%A9%D7%99%D7%A4%D7%94/ Recent content in חשיפה on UV Curing Wave Hugo he Sun, 05 Jul 2026 18:23:29 +0800 http://uv-curing-wave.com/he/posts/uv-gallium-lamp-for-pcb-exposure/ Sun, 05 Jul 2026 18:23:29 +0800 http://uv-curing-wave.com/he/posts/uv-gallium-lamp-for-pcb-exposure/ <p><img src="http://uv-curing-wave.com/images/ade5bfab5de03056f3a80cc9a815d2bf.png" alt="מנורת גאליום באור UV לחשיפת PCBים"></p> <h2 id="הקדמה">הקדמה</h2> <p>בואו נעבור ישר לעניין. בנינו מנורת ה-UV הזו מסיבה אחת בלבד: כדי לעמוד בדרישות הקשות של עיבוד שבבי ה-PCB.<br> זו אינה מנורת UV רגילה. זו מנורה בעלת עוצמה גבוהה ואורך גל קצר, שנועדה לספק כמות מדויקת של אנרגיה. כאשר יש צורך בחיסול מהיר ויעיל של שכבות הזהב או הדיו על שבבי ה-PCB, זו המנורה שתבצע את העבודה כראוי, בכל פעם.</p> <h2 id="ליבת-המכשיר">ליבת המכשיר</h2> <p>הסוד שוכן בעיצובה של המנורה – השימוש בגליום. עיצוב זה מאפשר להפנות את האנרגיה למקומות הנדרשים בלבד. התמקדות באורך גל קצר מאפשרת פולימריזציה מהירה, מבלי לפגוע בשטח העבודה.<br> המנורה פועלת על מתח של 400V – זהו דבר הכרחי כדי שהמנורה תפעל כראוי.<br> המפרטים של המנורה מדברים בעד עצמם: אורכה 300 ממ והעוצמה שלה 2500W. זו עוצמה גבוהה מאוד, שמאפשרת חיסול מהיר של שכבות הזהב, כך שקו הייצור שלכם לא יצטרך להיעצר.<br> אך עם עוצמה כזו יש גם חום – לכן חיוני שמערכת הקירור שלכם תהיה יעילה.</p> http://uv-curing-wave.com/he/posts/gallium-iodide-lamp-for-exposure-unit/ Wed, 24 Jun 2026 07:01:35 +0800 http://uv-curing-wave.com/he/posts/gallium-iodide-lamp-for-exposure-unit/ <p><img src="http://uv-curing-wave.com/images/bf3d65a904ba5515ce3abe9b959ac2e9.jpg" alt="נורת יודיד הגליום ליחידת חשיפה"></p> <p>בחדר ההדפסה, מהירות העבודה היא הכל. כאשר יחידת החשיפה פועלת, לא אכפת לה מהלו”ז שלכם – היא פועלת בהתאם ללוח הזמנים שנקבע, וכך גם כל שאר התהליכים. אנו מספקים נורות UV למערכות ההדפסה, וכן נורות גליום איודיד שנועדו לחיזוק יחידות החשיפה, על מנת לשמור על רמת חשיפה קבועה ועל מחזורי החלפה צפויים. התוצאה היא פשוטה: ניתן לבצע עבודות בקצב גבוה, מבלי להחזיק מלאי גדול של חלפים.</p> <p><strong>מה חשוב מבחינה טכנית?</strong> השימוש בגליום איודיד מאפשר להגיע לרמת חשיפה של 365–405 ננומטר. רמה זו תואמת את הטווח שבו רוב החומרים הפוטואיניציאטוריים סופגים אנרגיה. בנוסף, זה מפחית את האנרגיה בגלי האור הקצרים, שעלולה לגרום לחום ולאוזון. כך נוצרת רמת חשיפה יציבה וחזרתית על כל השטחים שעליהם מתבצעת ההדפסה.</p>